| Название | Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования |
|---|---|
| Аннотация | Стандарт распространяется на установки для ионной имплантации, предназначенные для внедрения ионов твердых, газообразных и жидких веществ массой от 1,660 57#10^-27 до 217,534 67#10^-27 кг (от 1 до 131 а.е.м.), в том числе элементарных и многоразрядных ионов бора, фосфора, цинка, мышьяка, селена и сурьмы с эквивалентной энергией ионов от 1,6#10^15 до 1,6#10^-13 Дж (от 10 до 1200 кэВ) при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем и других изделий микроэлектроники. |
| Статус Н/Д | Действующий |
| Дата принятия в РТ | 01.07.1983 |
| Дата введения | 01.07.1983 |
| Разработчик Н/Д и его адрес | - |
| Категория | Каталог межгосударственных стандартов |
| Язык оригинала | Русский |
| Изменения | - |
| Кол-во страниц | 4 |
| Заказать |